リソグラフィ投影装置及びデバイス製造方法

Lithographic projection apparatus and device manufacturing method

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic apparatus and a device manufacturing method.SOLUTION: In an immersion lithographic apparatus in which immersion liquid is supplied to a localized space, the space is substantially polygonal in plan substantially parallel to the substrate. In an embodiment, two corners of the space have a radius of curvature no greater than the width of a transition zone between the space configured to contain liquid and a surrounding configured not to contain liquid.
【課題】リソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。 【解決手段】局部空間に液浸液が供給される液浸リソグラフィ装置において、局部空間の平面図の形状が実質的に基板と平行の実質的に多角形である。一実施例では、空間の2つの角の曲率半径が、液体を含有するようになされた空間と、液体を含有するようになされていない周囲との間の移行ゾーンの幅以下である。 【選択図】図9

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